技術解説– category –

みなさんこんにちは。このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、半導体を学ぶときに必ず出てくるエネルギーバンドについて、PN接合を作った時になぜ曲がるのかを簡単に解説していきます。 PN接合を作ると、接合部分でバンドが曲がるのは当た...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、キオクシアが2024年のIEDMで発表する「OCTRAM」について調べてみます。 (完全に趣味で書いているので、間違っている部分があれば教えてください。かつ、公開情報をなるべく集め...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、ハーバード大がSamsungを特許侵害で提訴したという日経新聞の記事から、訴訟の元になった特許を探ってみます。 特許検索は専門では無いので、粗があると思いますがこっそり教え...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、ロジック半導体の45nmプロセスのフローを断面に起こして解説します。 45nmプロセスは、2007年当時の最先端ロジックプロセスで15年くらい前のプロセスです。 現代では、レガシー...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、三次元NANDフラッシュメモリの構造をついて簡単に解説します。 三次元NANDフラッシュメモリについて知るためには、二次元のNANDフラッシュメモリの動作原理を知っていることが...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、生成AI向けのGPUに必要とされるHBMについて解説します。 HBMについては、生成AI向けの需要が高まっていることはさかんに報道されていますが、詳しい内容について書かれた日本語...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、半導体の物性評価で使われるホール効果測定について、簡単そうに見えて意外と奥が深いんですよということを書いていきます。 【ホール効果測定の原理】 ホール効果測定は、半導...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、180nm世代のCMOSプロセスを断面に焼き直していくことで、CMOSのプロセスを解説していきます。 冒頭から宣言しますが、この記事めちゃくちゃ長いです。(17000字あるのと、図が50...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、半導体デバイス製造に広く使われているのはシリコンですが、シリコンに代わりうる材料として研究開発が進められている材料について簡単に紹介します。 【はじめに】 そもそも、...

みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、キヤノンが独自に開発しているリソグラフィー技術であるナノインプリントリソグラフィー(NIL)について解説します。 今回のメインテーマはこの3つです。 ・そもそもNILとは何な...