技術解説– category –
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45nmプロセスのフローを断面に起こして解説
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、ロジック半導体の45nmプロセスのフローを断面に起こして解説します。 45nmプロセスは、2007年当時の最先端ロジックプロセスで15年くらい前のプロセスです。 現代では、レガシー... -
三次元NANDフラッシュメモリの構造を簡単に解説
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、三次元NANDフラッシュメモリの構造をついて簡単に解説します。 三次元NANDフラッシュメモリについて知るためには、二次元のNANDフラッシュメモリの動作原理を知っていることが... -
生成AI向けGPUに載っているHBMについて解説
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、生成AI向けのGPUに必要とされるHBMについて解説します。 HBMについては、生成AI向けの需要が高まっていることはさかんに報道されていますが、詳しい内容について書かれた日本語... -
ホール効果測定は簡単に見えて奥が深い
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、半導体の物性評価で使われるホール効果測定について、簡単そうに見えて意外と奥が深いんですよということを書いていきます。 【ホール効果測定の原理】 ホール効果測定は、半導... -
180nmのモデルプロセスを断面に焼き直してみた~CMOSの製造プロセスを解説~
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、180nm世代のCMOSプロセスを断面に焼き直していくことで、CMOSのプロセスを解説していきます。 冒頭から宣言しますが、この記事めちゃくちゃ長いです。(17000字あるのと、図が50... -
シリコンは時代遅れ!?いえ、シリコンは永遠ですが次世代半導体材料の候補を紹介
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、半導体デバイス製造に広く使われているのはシリコンですが、シリコンに代わりうる材料として研究開発が進められている材料について簡単に紹介します。 【はじめに】 そもそも、... -
ナノインプリントリソグラフィー(NIL)を解説~EUVとの違いと実用化への課題とは~
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、キヤノンが独自に開発しているリソグラフィー技術であるナノインプリントリソグラフィー(NIL)について解説します。 今回のメインテーマはこの3つです。 ・そもそもNILとは何な... -
NANDフラッシュメモリの動作原理を解説~二次元NANDフラッシュで基礎的な原理を理解する~
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、NANDフラッシュメモリの動作原理について、二次元NANDフラッシュの構造を例にとって基礎的な部分を解説します。 フラッシュメモリの現在の開発は三次元NANDに移っているので、... -
半導体デバイスを作るうえで重要なリソグラフィについて解説~実用編~
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、リソグラフィーの解説記事の実用編として、リソグラフィーがなぜ難しいのかを解説していきます。 難しさを考える前に、基本的な原理についてはこちらの記事で解説しているので... -
半導体デバイスを作るうえで重要なリソグラフィについて解説~原理編~
みなさんこんにちは、このブログを書いている東急三崎口です。 この記事では、半導体デバイスを作るうえで重要なリソグラフィの原理について解説します。 リソグラフィは、半導体デバイスを作るときに必ず使われる重要な技術です。しかし、意外と何をやっ...
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